O efeito fotorrefrativo é a base das aplicações ópticas holográficas, mas também traz problemas para outras aplicações ópticas, portanto, o aprimoramento da resistência fotorrefrativa do cristal de niobato de lítio tem recebido grande atenção, entre as quais a regulação de dopagem é o método mais importante.Em contraste com a dopagem fotorrefrativa, a dopagem anti-fotorrefrativa usa elementos com valência não variável para reduzir o centro fotorrefrativo.Em 1980, foi relatado que a resistência fotorrefrativa de cristal LN dopado com Mg de alta razão aumenta em mais de 2 ordens de magnitude, o que atraiu grande atenção.Em 1990, os pesquisadores descobriram que o LN dopado com zinco tem alta resistência fotorrefrativa semelhante ao LN dopado com magnésio.Vários anos depois, LN dopado com escândio e índio também apresentaram resistência fotorrefrativa.

Em 2000, Xu et al.descobriu que altoRazão Mdopado com gLNcristal com alta resistência fotorrefrativa na banda visível hasexcelente desempenho fotorrefrativo na banda UV.Esta descoberta quebrou a compreensão dearesistência fotorrefrativa deLNcristal, e também preencheu o blank de materiais fotorrefrativos aplicados na faixa ultravioleta.O comprimento de onda mais curto significa que o tamanho da grade holográfica pode ser menor e mais fino, e pode ser apagado dinamicamente e escrito na grade por luz ultravioleta e lido por luz vermelha e luz verde, de modo a realizar a aplicação de óptica holográfica dinâmica .Lamarque et al.adotou o altoproporção Mdopado com gLN cristal fornecido pela Nankai University como o fotorrefrativo UVmateriale realizou marcação a laser bidimensional programável usando amplificação de luz acoplada de duas ondas.

No estágio inicial, os elementos de dopagem anti-fotorrefrativos incluíam elementos divalentes e trivalentes, como magnésio, zinco, índio e escândio.Em 2009, Kong et al.desenvolveu dopagem anti-fotorrefrativa usando tetraelementos valentes, como háfnio, zircônio e estanho.Ao atingir a mesma resistência fotorrefrativa, em comparação com elementos divalentes e trivalentes dopados, a quantidade de dopagem de elementos tetradvalentes é menor, por exemplo, 4,0 mol% de háfnio e 6,0 mol% de magnésio dopadoLNcristais têm similarresistência fotorrefrativa,2.0 mol% de zircônio e 6.5 mol% dopado com magnésioLNcristais têm similarresistência fotorrefrativa.Além disso, o coeficiente de segregação de háfnio, zircônio e estanho no niobato de lítio é mais próximo de 1, o que é mais favorável para a preparação de cristais de alta qualidade.

LN de alta qualidade desenvolvido por WISOPTIC [www.wisoptic.com]